TSMC는 자사 팹 내부의 매우 희귀한 비디오 모습을 제공합니다. 회사의 US Arizona Fab 21의 플라이바이 비디오에서 공개된 ‘Silver Highway’ 및 팹 도구입니다.
TSMC는 출판됨 애리조나 주 피닉스 근처 Fab 21 상공을 비행하는 영상. 이 영상에는 다양한 미국 기업을 위해 체계적으로 칩을 제작하는 수백 가지의 첨단 기술 도구가 나와 있습니다. 이 팹의 가장 중요한 보석은 물론 Nvidia의 Blackwell B300 프로세서와 같은 칩의 가장 복잡한 회로를 생산하는 ASML의 Twinscan NXE 극자외선 리소그래피 도구입니다.
나는 $TSM이 $ASML의 EUV 장비를 사용하여 칩을 만드는 방법을 설명하고 $ASML에서 제공한 작은 클립도 포함하는 새로운 애리조나 팹에 대한 비디오를 게시한 방식을 좋아합니다. “이를 수행하는 것은 엄청나게 어렵습니다. 우리는 극자외선 기술을 사용하고 있습니다… pic.twitter.com/0iUqR13Z8J2025년 9월 7일
이 동영상은 N4 및 N5 공정 기술(4nm 및 5nm급)을 사용하여 칩 생산을 늘리고 있는 애리조나주 피닉스 근처의 TSMC Fab 21 1단계 내부 모습을 제공합니다. 비디오는 포토레지스트의 의도하지 않은 노출을 방지하기 위해 더 짧은 파장을 필터링하는 노란색 조명이 있는 클린룸 위의 경로를 묘사합니다.
오프닝 시퀀스는 300mm 웨이퍼를 운반하는 전면 개방형 통합 포드(FOUP)를 운반하는 오버헤드 트랙으로 구성된 소위 ‘실버 하이웨이’인 TSMC의 AMHS(자동 자재 처리 시스템)를 보여줍니다. HVM(대량 제조) 환경에서 사이클 시간을 유지하는 데 중요한 팹 주변의 세심한 웨이퍼 물류를 보여주기 위해 수백 개의 FOUP가 움직이는 모습을 보여줍니다.
비디오의 중심에는 Christopher Nolan의 Oppenheimer 스타일 비디오에서 웨이퍼에 ‘인쇄’ 패턴을 묘사한 ASML의 EUV 스캐너(예: Twiscan NXE:3600D)가 있습니다. EUV 리소그래피는 CO를 사용합니다.2 주석 방울에서 레이저 생성 플라즈마(LPP)를 통해 생성된 13.5nm 파장의 빛은 챔버에서 보라색 플라즈마 점화로 표시됩니다. 그런 다음 LPP가 웨이퍼에 닿아 현재 노드의 단일 노출에서 최대 13nm 하프 피치까지의 해상도로 복잡한 패턴을 생성합니다.
또한 이 영상에서는 수 나노미터(NXE:3600D의 경우 1.1nm) 이내의 오버레이 정확도, 확률론적 효과, 포토리소그래피에 사용되는 기존 광학 장치가 EUV 조명을 흡수하기 때문에 거울의 필요성 등 EUV의 과제를 강조합니다. 이 비디오는 TSMC가 추가 성능을 위해 맞춤화한 웨이퍼 스테이지와 펠리클을 묘사하지 않습니다. 그러나 우리는 EUV 리소그래피 도구의 이러한 중요한 구성 요소가 Fab 21 1단계에서 사용되는 시스템에 물론 존재한다는 것을 알고 있습니다.
현재 TSMC는 N4 및 N5 공정 기술을 사용하여 Fab 21 1단계에서 Apple, AMD 및 Nvidia와 같은 회사를 위한 칩을 제조하고 있지만, 회사는 현재 N3 및 N2 시리즈 공정 기술로 칩을 생산할 수 있는 Fab 21 2단계도 구축하고 있습니다. Fab 21 3단계), 최근 회사 CEO인 CC Wei가 암시한 오랜 소문의 업그레이드입니다.
웨이는 지난 주 애널리스트와 투자자들에게 “우리는 고객의 강력한 AI 관련 수요를 고려하여 애리조나에서 우리 기술을 N2 및 보다 진보된 공정 기술로 더 빠르게 업그레이드할 준비를 하고 있습니다”라고 말했습니다. “게다가 우리는 현재의 확장 계획을 지원하고 다년간의 매우 강력한 AI 관련 수요에 대응하여 더 많은 유연성을 제공하기 위해 근처에 두 번째 대규모 토지를 확보하는 데 가까워졌습니다. 우리의 계획을 통해 TSMC는 애리조나에 있는 독립적인 Gigafab 클러스터로 확장하여 스마트폰, AI 및 HPC 애플리케이션 분야의 선도적인 고객의 요구를 지원할 수 있을 것입니다.”
TSMC는 월 10만개 이상의 웨이퍼 스타트 생산 능력을 갖춘 현장을 ‘기가팹(Gigafab)’이라고 부른다.
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